Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L: Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

S. Bollanti*, F. Bonfigli, P. Di Lazzaro, A. Faenov, F. Flora, G. Giordano, T. Letardi, T. Limongi, L. Mezi, D. Murra, T. Pikuz, L. Palladino, A. Reale, L. Reale, A. Ritucci, A. Scafati, G. Tomassetti, A. Vitali, C. E. Zheng

*Corresponding author for this work

Research output: Contribution to journalArticlepeer-review

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Original languageFrench
JournalJournal De Physique. IV : JP
Volume11
Issue number7
StatePublished - Oct 2001
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